貝克曼庫(kù)爾特公司新一代 LS 13 320 XR 將激光衍射粒度分析儀提升到了一個(gè)更高的水平，升級(jí)版 PIDS 專(zhuān)技 術(shù)，優(yōu)化的132枚檢測(cè)器，保證了儀器分辨率更高，結(jié)果更準(zhǔn)確，再現(xiàn)性更 好。您不僅可以測(cè)量粒徑范圍更寬的顆粒，而且可以更快、更可靠地檢測(cè)到顆粒粒徑間極細(xì)微的差異。并且新軟 件的操作界面更加直觀，僅需點(diǎn)擊幾次便可獲得您需要的數(shù)據(jù)。

LS 13 320 XR激光衍射粒度分析儀是一款全自動(dòng)、高準(zhǔn)確性、高分辨率、高重現(xiàn)性以及操作非常簡(jiǎn)單的干濕兩用粒 度分析儀，采用全程Mie光散射理論并提供Fraunhofer理論模型。LS 13 320 XR配備有多種新型的樣品進(jìn)樣模塊， “即插即用"，滿(mǎn)足不同的分析要求，靈活便利；PIDS技術(shù)，真正實(shí)現(xiàn) 10nm粒徑測(cè)量；直觀的軟件和觸摸屏設(shè)計(jì)，大大簡(jiǎn)化了儀器的操作。LS 13 320 XR將為您開(kāi)啟全新的測(cè)量體驗(yàn)！
超高分辨率
不論單峰、雙峰還是多峰，不論納米、微米還是納微米，均可實(shí)現(xiàn)高分 辨率的檢測(cè)
寬測(cè)量范圍：10nm-3500µm
提供真實(shí)（峰值）、高分辨率的測(cè)試數(shù)據(jù)，下限低至 10nm，上限高達(dá) 3500µm
升級(jí)版 PIDS 技術(shù)：更好解決納米測(cè)量挑戰(zhàn)
提高原始數(shù)據(jù)檢測(cè)精度，提高檢測(cè)器檢測(cè)垂直和水平偏振散射光的靈敏 度，真正實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)粒度分析 - 以往極難達(dá)到的測(cè)量能力
多峰自動(dòng)檢測(cè)
測(cè)量前無(wú)需估計(jì)粒度分布情況（比如多峰、窄分布），便可獲得真實(shí)的 測(cè)量結(jié)果
簡(jiǎn)單、直觀的操作軟件
• 從開(kāi)始測(cè)量到獲得結(jié)果僅需 2 次點(diǎn)擊
• 包含一個(gè)集成的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)
• 隨時(shí)向您通報(bào)有用的用戶(hù)診斷報(bào)告
• 精簡(jiǎn)的工作流不僅易于使用，更節(jié)省時(shí)間
數(shù)據(jù)完整性及合規(guī)性
FDA的《電子記錄和電子簽名規(guī)則》 （21 CFR 第 11 部分）規(guī)定了提交電 子文件的要求。選擇軟件的最高安全 等級(jí)，系統(tǒng)將自動(dòng)調(diào)節(jié)以下配置，以 符合該法規(guī)要求：
• 電子簽名
• 用戶(hù)安全登錄
• 用戶(hù)權(quán)限
• 審查跟蹤
• 錯(cuò)誤日志文件
• 管理配置工具
驗(yàn)證
這是《生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范（GMP）》和其它法規(guī)要求所必須的。 LS 13 320 XR激光衍射粒度分布分析儀配備符合GMP要求的驗(yàn)證程序，可滿(mǎn)足安裝驗(yàn)證（IQ）和運(yùn)行驗(yàn)證（OQ） 所需。

簡(jiǎn)單易用的軟件 簡(jiǎn)化您的日常工作
導(dǎo)航輪 顯示和導(dǎo)出數(shù)據(jù)僅需點(diǎn)擊 1 次。
比以往更高效的粒度分析
LS 13 320 XR 軟件的功能界面更加直觀，非常易于使用，您無(wú)需具備大量的操作知識(shí)便可輕松獲得準(zhǔn)確 的數(shù)據(jù)。
開(kāi)始測(cè)量
檢測(cè)方法一旦在LS 13 320 XR軟件中設(shè)定，僅需點(diǎn)擊2次便 可開(kāi)始測(cè)量。選擇預(yù)先設(shè)定的方法，編輯樣品信息，然后點(diǎn) 擊開(kāi)始測(cè)量。
儀器自檢
儀器配備有自檢診斷功能，測(cè)試過(guò)程中隨時(shí)顯示測(cè)量情況。
自動(dòng)合格/不合格管理，實(shí)現(xiàn)直接質(zhì)控
為檢驗(yàn)樣品合格/不合格，LS 13 320 XR軟件自動(dòng)對(duì)測(cè)量結(jié)果 標(biāo)注綠色或紅色，提示其是否符合所需規(guī)格。因此，無(wú)論操 作人員經(jīng)驗(yàn)如何，均可通過(guò)該功能迅速了解樣品質(zhì)量情況。
導(dǎo)航輪
顯示和導(dǎo)出數(shù)據(jù)僅需點(diǎn)擊 1 次。

重磅創(chuàng)新 幫助您準(zhǔn)確測(cè)量細(xì)微差異
細(xì)節(jié)尤為重要！樣本間極細(xì)微的差異，會(huì)導(dǎo)致成品間出現(xiàn)巨大差異。 這也是為什么 LS 13 320 XR 激光衍射粒度分布分析儀采用 132 枚檢測(cè)器的原因，其可以提供更高的分辨率，獲得更 準(zhǔn)確的檢測(cè)結(jié)果，同時(shí)實(shí)現(xiàn) 10 nm - 3500 µm 的寬范圍測(cè)量。
X-D陣列檢測(cè)器 - 確保高分辨率的準(zhǔn)確測(cè)量
• 特殊設(shè)計(jì)X型對(duì)數(shù)排布檢測(cè)器陣列，可以準(zhǔn)確記錄散射光強(qiáng)信號(hào)，獲得 真實(shí)準(zhǔn)確的粒度分布
• 132枚檢測(cè)器能夠清晰區(qū)分不同粒度等級(jí)間散射光強(qiáng)譜圖差異，快速、準(zhǔn) 確的提供真實(shí)粒度分布
• 優(yōu)化的檢測(cè)器信噪比，大大提高了檢測(cè)到散射光強(qiáng)譜圖細(xì)微變化的能力
• 亞微米檢測(cè)區(qū)域，應(yīng)用6枚檢測(cè)器對(duì)三種不同波長(zhǎng)的光在垂直和水平偏振 方向上進(jìn)行36個(gè)單獨(dú)檢測(cè)，提供納米級(jí)顆粒優(yōu)異的準(zhǔn)確性和高分辨率

多峰樣品自動(dòng)檢測(cè)，更放心
• 憑借業(yè)界出眾的技術(shù)，無(wú)需預(yù)估樣品峰 型，無(wú)需選擇分析模型，輕松準(zhǔn)確分析 多峰樣品，讓您對(duì)測(cè)試結(jié)果更放心
• 準(zhǔn)確性誤差優(yōu)于±0.5%
• 重復(fù)性誤差優(yōu)于±0.5%

重磅創(chuàng)新 真正實(shí)現(xiàn)納米級(jí)測(cè)量
創(chuàng)新不止，重磅升級(jí)，基于升級(jí)版PID技術(shù)，LS 13 320 XR真正實(shí)現(xiàn)納米 級(jí)測(cè)量，提供亞微米顆粒更高分辨率的粒度分析，下限可準(zhǔn)確檢測(cè)至 10nm！
PIDS技術(shù)：偏振光強(qiáng)度差散射
傳統(tǒng)方法測(cè)量亞微米顆粒的散射光強(qiáng)譜圖在形狀和強(qiáng)度 上都非常相似，區(qū)分比較困難，因此當(dāng)測(cè)量亞微米顆粒 時(shí)，由于分辨率低而造成不準(zhǔn)確的粒度測(cè)量。
而亞微米顆粒在水平和垂直偏振光下可形成差異的散射 譜圖，而這些差異便是亞微米顆粒識(shí)別的重要信息。 PIDS技術(shù)采用了3種不同波長(zhǎng)的光順次照射樣品，首先 為垂直偏振，然后為水平偏振，通過(guò)分析每個(gè)波長(zhǎng)的水 平和垂直輻射光之間的差異，便可獲得亞微米樣品準(zhǔn)確 的粒度分布信息。升級(jí)版PIDS技術(shù)從光源到濾波器 再到檢測(cè)器都進(jìn)行了全面的升級(jí)，使得測(cè)量亞微米顆粒 的動(dòng)態(tài)范圍和分辨率都得到了更大程度上的提高。